ICC訊 在半導體生產領域，韓國三星絕對是巨頭中的巨頭，然而巨頭有時候也受制于人，其中用于極紫外（EUV）光刻工藝的光刻膠材料，一直是這家巨頭的“軟肋”之一。曾經在2019年，被日本企業限制供貨后，導致生產線停滯。

  為了擺脫這一限制，據外媒消息，三星SDI最近正在為其研究中心的光刻膠開發，引入了8英寸晶圓光刻和涂膠顯影設備，這也意味著三星終于開始朝著光刻膠材料進行攻克和研發了。

  據韓媒指出，三星SDI開發半導體光刻膠的舉措將對韓國持續推進的材料國產化產生重大影響。

  實際上，在韓國當地，Dongjin Semichem和SK Materials Performance等光刻膠供應商一直在為本土化生產而努力。然而，許多行業專家指出，韓國需要投入更多的資金和人力成本，才能成為核心半導體材料的中心。

  行業分析人士指出，如果三星SDI進入該領域并大規模生產光刻膠，將大大增強韓國的半導體材料研究基礎設施。

  但三星SDI并未透露光刻膠開發計劃的啟動和完成時間。該公司僅表示，在完成光刻膠開發后，不僅將向三星電子提供新產品，還將向其他半導體公司及使用光刻膠的公司供貨。三星SDI的一位高管表示，“我們一直在開發各種類型的光刻膠，包括 EUV光刻膠。”不過，光刻膠的商業化時間及具體細節還未敲定。

  實際上，熟悉半導體產業的朋友都知道，在半導體制造的材料工藝方面，日本企業的先發優勢和行業領導地位，幾乎無可逆轉，畢竟以閃存為代表的眾多半導體工藝的創始企業，幾乎都來自日本。