ICC訊 2021年9月16-18日，凌越光電參加中國國際光電博覽會(CIOE 2021)深圳國際會展中心(寶安新館)展位號5號館5E會議室，歡迎行業朋友蒞臨參觀交流!

  重慶凌越光電科技有限公司(Leaptek Photonics, Inc.)成立于2020年，是一家國際領先的光芯片IDM公司，專業從事砷化鎵(GaAs)、磷化銦(InP)等主流半導體光芯片研發與制造。凌越光電由高度國際化的“行業老兵”團隊合作創辦，近40人含14位博士，股東包括中國及歐洲團隊。公司總部位于重慶兩江新區，正在興建3萬平方米從外延生長、晶圓工藝至器件封測全流程設計制造能力的先進光芯片基地，預計2022年下半年投入使用。并與芬蘭擁有超過20年成熟芯片量產經驗的Modulight公司緊密合作，在歐洲設有從外延設計生長至最終解理封裝的全產業工序的研發生產中心。

      凌越光電具備從0.6到1.7 μm的全波段各類激光芯片開發能力，產品包括高速 1310 nm EML和DFB激光芯片，大功率632 nm、905 nm、1550 nm 直流和脈沖激光芯片等，性能已達國際領先水平。 

凌越光電展區(5號館5E會議室)

  凌越光電主要聚集EML光芯片，在本次展會上現場測試其EML光芯片。從測試性能上來看，表現優越，并獲得了行業企業的認可。凌越光電掌握從外延生長，到晶圓工藝至芯片封測全流程生產制造工藝，使得產品的可靠性和一致性得到更大的保障與加強。在9月14-15日的訊石第二十屆研討會上凌越光電聯席CEO胡翀發表《高速激光芯片技術的進展及在光通信應用的趨勢》的主題報告也得到了高度關注。

  凌越光電展區(5號館5E會議室)